格隆匯5月13日丨普達特科技(00650.HK)公吿，公司控股69.2%的附屬公司芯愷半導體設備(徐州)有限責任公司，已從一個客户處獲得兩台半導體低壓化學氣相沉積("LPCVD")設備樣機訂單。該等樣機訂單的收入暫未確認。據董事經作出一切合理查詢後所深知、盡悉及確信，於本公吿日期，該客户及其最終實益擁有人為獨立於公司及其關連人士的第三方。

該等設備為用於12寸半導體晶圓製造的爐管LPCVD設備，分別針對LP-SiN與ALD-SiN兩類關鍵的薄膜沉積工藝，已經歷前期的測試驗證，將分別於2025年5月十九日與2025年6月25日交付至客户的晶圓廠。相比國產的同類設備，該等設備在技術上可實現更高的填充深寬比、均勻性、台階覆蓋率與更低的污染，此外該等設備擁有更高的批次生產效率，且具備多種工藝選擇的兼容性。相比海外供應商的同類設備，該等設備具有同等水平的技術性能與更優的性價比，可為客户提供更具綜合競爭力的解決方案。