格隆汇5月20日丨炬光科技(688167.SH)在互动平台表示，一、我们的微纳光学制备技术涵盖了多个前沿领域： 1. 晶圆级同步结构化技术：我们拥有基于最大尺寸为12英寸（300mm x 300mm）的玻璃基板或其他无机材料的基板，进行高精度的微纳光学制备的能力。这项技术自2017年并购LIMO后，我们持续投入研发，不断技术升级和迭代，现已广泛应用于大批量柱面形貌的微纳光学元器件生产，年出货量高达数千万只。 2. 光刻-反应离子蚀刻技术：在6或8英寸的硅或熔融石英基板上，我们运用精密的光刻-反应离子蚀刻工艺，制造出高质量的微纳光学元器件。今年1月，我们成功并购瑞士炬光，获得了这一在全球处于领先地位的技术。目前，该技术已处于成熟量产阶段，产品广泛应用于光纤耦合、激光准直、光场匀化、光束整形等精密微纳光学领域。 3. 纳米压印精密微纳光学设计与加工制造技术：我们结合微纳光学设计目标，制造精密的母版，并在8英寸晶圆基板上进行精密压印，确保模具与基板的对准精度小于±5微米。目前，我们正在积极研发，以形成12英寸晶圆微纳光学加工制造能力。8英寸晶圆产品已处于成熟量产阶段，而12英寸晶圆产品则处于开发阶段，主要服务于汽车智能投影、智能照明等领域的微透镜阵列生产。 二、对于应用方面的询问，我们做出如下回应： 1. 面板显示OLED剥离领域：我们掌握了先进的固体激光剥离紫外线光斑技术，该技术经过多年的技术积累和量产应用，已经趋于成熟，并在全球市场上基本取代了准分子技术路线。凭借低运营成本，我们的技术已成为柔性OLED剥离的主流技术。此外，我们还提供对现有面板厂产线上准分子激光器剥离系统的改造升级服务，助力客户实现技术更新。 2. 面板显示激光退火领域：我们正在开发紫外固体激光退火线光斑系统，该系统将用于实现显示行业低温多晶硅退火制程。我们已于2020年成功交付第一台样机，有望打破传统准分子激光退火在该领域的全球优势地位，为客户提供低成本、高效率的全新解决方案。