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光刻机巨头发声提振,光刻机概念开启二波攻势,国产光刻机产业链曙光初现
格隆汇 11-07 13:30

11月7日,光刻机概念开启二波攻势,截至发稿,东方嘉盛升停,蓝英装备直线飙升7%,波长光电升超7%,张江高科、上海新阳、扬帆新材、容大感光紧跟升势。

消息面上,荷兰光刻机巨头阿斯麦全球高级副总裁、中国区总裁沈波在进博会期间接受专访时表示,今年阿斯麦中国的业务增长很快,预期全年中国占阿斯麦全球的营收会超过20%,对明年在中国的业务也非常的乐观。

沈波表示:“我们2023年在中国的招聘是超过200人的,2024年我们预计业务的发展会继续带来很多需求,我们的团队的扩充应该还会是一个相对比较大的规模。”

ASML Q3中国大陆收入占比猛增至46%

据不久前ASML2023年第三季度财报显示,当季ASML实现净销售额约67亿欧元,毛利率为51.9%,净利润达19亿欧元,预计2023年全年增幅达30%。该季度ASML共售出112台光刻机,新增订单金额达26亿欧元。

在第三季度销售的设备中,中国大陆客户占比达46%,其次是中国台湾占比24%,韩国占比20%。具体来看,中国大陆超越中国台湾成为ASML第一大收入来源,23Q3收入约24.4亿欧元,同比+282.6%,环比+81.5%。中国台湾的收入占比下降至24%(去年同期为47%,23Q2为34%)。

据介绍,第三季度中国市场销售额所占的比重较高。主要原因有两方面:首先,发运到中国的设备主要针对成熟制程客户,本季度的大部分出货是基于2022 年甚至更早的订单。其次,ASML看到其他客户的需求时间节点发生了变化,从而能够向中国客户交付更多设备。

国产光刻机迎来重大突破

不久前,光刻机产业链迎来重大突破,一则专利信息也引爆市场。

10月27日,国家知识产权局公布一项来自上海微电子装备“光刻投影物镜及光刻机”的专利申请。这是国产光刻机零到1的突破,意义重大。

市场预期,上海微电子预计在今年底交付国内第一台SSA800光刻机设备,一旦成功,我国将能够自主生产7至14纳米的芯片。

澎湃新闻报道,前台积电副总林本坚称,中国晶圆代工厂和华为可以使用现有的旧机器来制造更复杂的芯片。林本坚表示,通过利用已经在使用的ASML设备,中国应该能推进到下一代5纳米工艺。

对于此次阿斯麦全球高级副总裁、中国区总裁沈波这个表态,或意味着,将要取消对华的出口限制,大量出口光刻机给中国!看来也是国产要突破的消息,让美国有了紧迫感。

有分析指出,若是出口限制取消,继续进口了光刻机,对于其它的设备,半导体设备有望大幅受益。要知道,目前除了光刻机,其他国产半导体设备国产率很高了,已经超过了60%!

还有纳米压印进场搅局

除了上诉消息催动近期半导体板块行情,行业内研究突破消息,也引起市场关注。

近日, 据佳能官网介绍,这款FPA-1200NZ2C光刻机,可以通过纳米压印技术,实现14nm线宽,即对标 5nm 制程的芯片。

佳能首席执行官Fujio Mitarai表示,该公司的纳米压印设备价格将比ASML的光刻机少一位数,但目前还未决定其最终定价。与此同时,佳能机器所需要的功耗仅为光刻机的十分之一。

众所周知,EUV光刻机在业内本就是名副其实的电老虎,这也是台积电等使用EUV光刻机的企业诉苦的一大缘由,它实在太耗电了,而相比数据显示NIL设备耗电量仅为EUV光刻机的10%,用电成本低。

据此前消息,ASML的新旗舰光刻机价值约4亿美元,近人民币27亿元。其功耗则可能飙升至两百万瓦,比当前光刻机的额定耗电量还要高出一倍。

在拥有全球最多光刻机的台积电,80台功耗一百万瓦的光刻机已让台积电能源消耗占到全台湾地区的12.5%,若其引入更新的下一代光刻机,台积电的耗电量将更加恐怖如斯。

若佳能新设备的上市无疑能够打破由少数现金充裕的头部公司垄断芯片制造的局面,小公司或许不再需要通过代工厂商来进行芯片生产,这对促进芯片竞争有着极为关键的作用。

总的来说,纳米压印的再次“进场”,带给了人们降低成本的更多可能性,这对国内以及全球芯片行业都是利好消息。

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